Китай наконец-то изобрел технологию производства чипов: в Европе такая была 15 лет назад

Министерство промышленности и информационных технологий Китая предполагает, что государство отстает от США в производстве микросхем на 15 лет. Речь, в частности, идет о компании ASML, пишет ресурс WCCFTech.

В связи с последними санкциями со стороны правительства Нидерландов, требующими от ASML получения лицензий перед продажей устаревших машин для производства чипов на базе DUV, Китай разработал собственный сканер DUV. В документе по внедрению руководящих принципов сказано, что китайские ученые создали машину для литографии на основе фторида аргона с толщиной слоя менее 8 нм. Этот литографический сканер использует длину волны света 193 нм и может печатать чипы с разрешением 65 нм. Такое разрешение было доступно клиентам голландского гиганта еще в 2009 году.

Если говорить о последнем портфолио продуктов ASML, то наиболее близким аналогом является сканер TWINSCAN XT:1460K. Эта машина также имеет разрешение ниже 65 нм и использует источник света на основе фторида аргона длиной 193 нм. Однако она все равно более продвинута, чем китайская машина, поскольку спецификация наложения составляет менее 2,5 нм, что намного превосходит 8-нанометровое наложение, заявленное китайским министерством.

Поскольку производство полупроводников включает в себя манипулирование светом для печати мельчайших схем на кремниевой пластине, его качество и технические параметры включают в себя манипулирование светом. Разрешение машины для производства чипов определяется просто как минимальный размер элемента, который машина может напечатать. Этот размер зависит от множества других факторов, из которых наиболее важными являются числовая апертура машины, ее глубина фокусировки и размер маски.

В этих случаях более высокая числовая апертура обычно означает более низкое разрешение, что позволяет производителям чипов уменьшать размеры чипов. Наложение машины — это ее способность наносить новые узоры на существующие узоры на пластине. Поскольку при изготовлении чипов используется маска для отпечатывания схемных рисунков для электропроводности, машины с меньшими возможностями наложения лучше, поскольку они позволяют плотно упаковывать схемы.

ASML впервые представила свои машины для чипов TWINSCAN в 2005 году. С тех пор фирма перешла к иммерсионным машинам и новым инструментам EUV, которые постепенно становятся основой отрасли. Ее сканер TWINSCAN:XT 1460, который является наиболее близким приближением к доступной в настоящее время машине TWINSCAN:XT:1460K, впервые появился в годовом отчете фирмы за 2015 год с разрешением 65 нм и длиной волны света 193 нм.

Машины для производства чипов стали ценным товаром для КНР, поскольку новейшее оборудование производится только компанией ASML. При этом местное китайское оборудование может помочь стране снизить зависимость от западной продукции. Это важно для развития в стратегической отрасли в эпоху, когда программное обеспечение искусственного интеллекта требует новейших полупроводников для максимальной производительности.

Что касается документа, там изложены три ключевые детали новейшей китайской литографической машины DUV: разрешение, длина волны и наложение. Сканер представляет собой машину на основе фторида аргона, которая используется в мировой полупроводниковой промышленности уже около двух десятилетий.