"Значний стрибок": створено високоефективний сонячний елемент із найтонших пластин

Технологія прямого перенесення газу на пластину від NexWafe повністю замінює звичайні пластини Чохральського і знижує вартість виробництва.

Компанія NexWafe GmbH з Німеччини оголосила про створення гетероперехідного сонячного елемента (HJT) з надтонких пластин, який досяг ефективності перетворення енергії 24,4%. Подробиці про винахід передає видання PV Magazine.

Компанія заявила, що ефективність була досягнута за допомогою неназваної комерційної виробничої лінії M6 HJT, не уточнивши, чи сертифікувала показник незалежна третя сторона. Водночас технологія прямого перенесення газу на пластину від NexWafe є повною заміною звичайних пластин Чохральського (CZ) і пропонує потенціал для значної економії коштів завдяки зниженню втрат матеріалу, споживання енергії на 40% і усуненню етапу процесу травлення з ризиком пошкодження осередків пилкою.

Вміст кисню в пластинах EpiNex також у 20 разів нижчий, ніж у звичайних пластинах CZ. Це нібито забезпечує термічну стабільність і допомагає поліпшити продуктивність комірок.

NexWafe GmbH додала, що розроблений нею у співпраці зі Швейцарським центром електроніки та мікротехнологій (CSEM) тандемний сонячний елемент на основі перовскіту і кремнію досяг ефективності перетворення енергії 28,9%.

Виробник стверджує: його технологія EpiWafers може допомогти виробникам модулів досягти значно вищого ступеня ефективності без необхідності модернізації виробничих ліній. Крім того, вона забезпечить виробництво надтонких пластин, що NexWafe GmbH продемонструвала на своїй пілотній лінії у Фрайбурзі (Німеччина).

NexWafe розробляє і виробляє монокристалічні кремнієві пластини, що вирощуються безпосередньо з недорогої сировини. Безперервний, прямий процес виробництва "газ-пластина" усуває необхідність у дорогих і енергоємних проміжних етапах, як-от виробництво полікремнію і витягування злитка, на яких засноване традиційне виробництво пластин. Повідомляється також, що цей процес мінімізує відходи, скорочуючи витрати на виробництво пластин до 30%. Він також забезпечує 70%-ве скорочення викидів вуглекислого газу під час виробництва, за даними компанії.

NexWafe планує ввести в експлуатацію свій епітаксіальний комплекс у Біттерфельді, округ Анхальт-Біттерфельд, земля Саксонія-Анхальт, Німеччина, до червня 2025 року. Інноваційна система використовує передові системи нагріву та хімічне осадження з парової фази за атмосферного тиску для осадження монокристалічного кремнію на площі 1,3 м x 50 см, що еквівалентно понад чотирнадцятьом пластинам G12 за один прохід.

"Завдяки перевіреним швидкостям осадження 5 мікрон за хвилину та однорідності температури, що досягає загальної зміни товщини (TTV) менш ніж 40%, ця платформа є значним стрибком у масштабованості виробництва", — каже виробник.