Технологічний прорив Китаю переверне світовий ринок гаджетів: що вдалося зробити

Китайська компанія Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) освоїла виробництво 5-нм чипів без використання літографії в екстремальному ультрафіолетовому діапазоні (EUV).

Прорив описано в серії постів аналітика галузі Вільяма Хуо в соціальній мережі X (колишня Twitter). Як вважає видання Gizmochina, це може кардинально змінити напівпровідникову промисловість у всьому світі.

SMIC навчилася виробляти чіпи за 5-нм технологічним процесом, використовуючи замість EUV старе обладнання глибокого ультрафіолету (DUV) у поєднанні з дуже складним процесом, відомим як "Самовирівнювальний чотиристоронній шаблон" (SAQP).

Протягом багатьох років в індустрії напівпровідників вважали, що машини для EUV-літографії, вироблені винятково голландською компанією ASML, незамінні для виготовлення чіпів на 5 нм і новіше. Більшість аналітиків вважали, що Китай застрягне на рівні 7 нм через експортні обмеження з боку США та їхніх союзників, які позбавили китайські компанії доступу до передових літографічних систем.

Однак, якщо вірити китайському аналітику, SMIC просувається вперед, вичавлюючи максимум із застарілого промислового обладнання. За словами Вільяма Хуо, це включало в себе накладення декількох етапів літографії та травлення, зокрема, з використанням SAQP, щоб імітувати точність EUV. У такий спосіб мікросхеми виробляються набагато повільніше, дорожче і з великим відсотком браку, але він працює.

Експерт додав, що технологія на основі DUV не є передовою, але вона досить хороша для забезпечення 90% робочих навантажень ШІ, 5G і високоякісних споживчих пристроїв. Китаю не потрібно відповідати процесорам Apple M3, достатньо перевершити Qualcomm.

"Так що ж далі? Ходять чутки про 3-нм вузол DUV з використанням SAOP (Self-Aligned Octuple Patterning). Так, це безумство. Але безумство — це нова стратегія, — зазначив Хуо. — Закон Мура не помер. Він перебрався в Шанхай".