Захід прорахувався: Китай здійснив несподіваний прорив у виробництві чипів

Про це пише газета South China Morning Post, посилаючись на роботу дослідницької групи з Шанхайського інституту оптики і точної механіки Китайської академії наук. Примітно, що керівником проєкту стала Лінь Нань, яка раніше очолювала відділ технологій джерел світла в ASML — компанії з Нідерландів, яка є єдиним у світі виробником обладнання EUV.

З 2019 року ASML заборонено продавати свої найпередовіші машини в Китай через санкції з боку США. Водночас EUV-установки мають вирішальне значення для виробництва чипів з вузлами менше семи нанометрів. У своєму зверненні до інвесторів 16 квітня генеральний директор ASML Крістоф Фуке заявив, що Китаю знадобиться багато років для створення своєї EUV-машини, хоча будь-хто може отримати деяку кількість екстремального ультрафіолетового випромінювання.

Тепер же Лінь Нань та її команда запевняють у науковій статті, ніби китайці вже досягли потрібного рівня технології. Як відомо, вчена повернулася з Нідерландів до Китаю 2021 року в межах кампанії з набору високопоставлених фахівців за кордоном, яку проводить країна, і заснувала дослідницьку групу з передових технологій фотолітографії, яка, ймовірно, домоглася великих успіхів завдяки знанням колишньої співробітниці ASML.

До приходу в ASML Лін проходила навчання в Анн Л'Юйє, лауреатки Нобелівської премії з фізики 2023 року і членкині Королівської шведської академії наук, в межах стипендії, яку присуджує програма Європейського союзу імені Марії Склодовської-Кюрі.

Як писало видання DigiTimes у березні, машина EUV-літографії проходить випробування на заводі Huawei в Дунгуані. Пробне виробництво заплановано на третій квартал 2025 року, а масове виробництво — на 2026 рік. Система використовує технологію лазерно-індукованої розрядної плазми (LDP), тоді як ASML покладається на плазму, вироблену за допомогою лазера (LPP).

Експерти, включно з дослідником з TSMC, вважають, що китайський метод може бути ефективнішим за технологію ASML. Якщо Китай успішно виведе на ринок технологію EUV на основі LDP, то зможе обійти санкції Заходу і знизити залежність від іноземних постачальників обладнання. Однак для цього дослідникам потрібно перемогти низку проблем: досягти достатньо вихідної потужності (від 50-100 Вт до 250 Вт), налагодити випуск високоточних оптичних компонентів і впровадити технології в масове виробництво.

Раніше з'явилася інформація, ніби Китай освоїв виробництво 5-нм чипів без використання літографії EUV. За словами аналітика Вільяма Хуо, інженери вдосконалили старе обладнання глибокого ультрафіолету (DUV) і об'єднали його зі складною технологією — "самовирівнювальним чотиристороннім шаблоном" (SAQP).