Китай еще на шаг ближе к чиповой независимости: представлен прототип EUV-излучателя

Шанхайский стартап Langdao Silex на промышленной выставке в Шанхае представил прототип источника экстремального ультрафиолетового (EUV) излучения, который является ключевым элементом и «сердцем» современных систем литографии для производства микросхем, сообщает издание South China Morning Post со ссылкой на сообщение китайского новостного сайта Jiefang Daily.

Достижения и локализация

Новая разработка является важной вехой в стремлении Пекина достичь полной технологической независимости в производстве полупроводников. Во время выставки представители компании подчеркнули высокий уровень самообеспеченности проекта:

• 90% компонентов оборудования являются локализованными, а подавляющее большинство ключевых деталей разработано непосредственно внутри компании, что демонстрирует реальные шаги китайских инженеров в стремлении снизить зависимость от западных технологий.
• Переход от лаборатории к промышленности: представители компании охарактеризовали прототип как решающий шаг к внедрению технологии в реальное производство.

Однако разработчики отмечают, что полноценное массовое производство оборудования начнётся лишь через три–пять лет, учитывая сложность создания стабильных источников EUV-излучения высокой мощности.

Ранее экс-глава Google Эрик Шмидт заявил, что китайские инженеры очень умны, работают невероятно много и даже в условиях жестко урезанных ресурсов сумели фактически догнать США. Их государственная программа по развитию ИИ существенно отличается от американской. Цель Пекина — внедрить ИИ во всё подряд, но исключительно в рамках их национального законодательства, включая драконовские нормы о свободе слова. При этом в Китае технологии ИИ пользуются огромной поддержкой, тогда как в США сейчас на политическом уровне наблюдается огромное неприятие и скептицизм. И сейчас похоже, что в гонке ИИ Китай отстает от США всего на полгода.